↑↑现在，在金属制造中采用一种新奇的离子注入技术，可以使金属材料表面陶瓷化或金刚石化。从而为金属材料披上十分坚固的盔甲。↑↑↑ ↑

↑↑离子注入技术是在粒子加速器技术，现代真空技术，离子束的形成、加速和扫描技术以及微机控制技术等高新技术基础上发展起来的。由于离子是依靠高速硬挤到金属内部之中，因此它和金属原子掺和在一起后，两者没有明显的界面，不会像其它镀覆技术那样，易于剥落。注入离子的数量、浓度和分布一般都可精确控制，“掺杂”的纯度也可以很高。所以，离子注入可以大大提高材料的机械性能。例如，经离子注入改性的拉丝模、轧辊、注塑、切纸刀等，寿命提高几倍到几十倍。海上飞机发动机的主轴承，注入离子后，形成的表面保护层能防止海水的腐蚀，可以使寿命延长９倍。２０世纪末，这项技术在理论和实践方面均取得重大突破，在半导体器件、金属材料表面改性、电介质材料改性等方面的应用均获得成功。↑↑↑ ↑

↑↑离子注入技术在具体实施中，要先将某种元素的原子进行电离，并使其在高压电场中加速，待它获得很高速度后，然后又让它像子弹一样以飞快的速度注入固体材料的表面，从而改变材料表层物理化学性能。↑↑↑ ↑

↑↑在各种离子注入实施进程中，硅的离子注入工艺已进入生产阶段，成为半导体工业的基本加工工序之一。经离子注入而将各种元素与硅晶体“掺杂”的半导体器件，其电路速度、电路集成度和电路成品率均有了较大的提高，同时还简化了集成电路的工艺流程。美国休斯实验室应用离子注入技术，制造出频率为５～１０ＧＨｚ的微波晶体管，德国西门子公司制造出高速低功耗的ＥＣＬ门电路。↑↑↑ ↑

↑↑将电介质铌酸锂、钽酸锂等进行离子注入处理，可制成光波导元件，此举开辟了离子注入技术在集成光学中的应用。由于传播光的波导层，一般在１～２μｍ之间，而此距离恰好是离子注入能够达到的深度。因此利用离子注入技术，可以在材料中形成一个高折射率区域。这个高折射率区域就是光波导区，它能够改变离子注入的能量和注入量，能够控制光波导区的深度和折射率的大小。除上述两种电介质衬底材料外，其它常用的衬底材料还有石英、碲化锌、氟化钙等。注入的离子有氩、氦、磷、锂、氧、硼、氮、氖等。除光波导元件外，集成光路的光源器件、光波导控制器、光耦合器和光调制器等，都可以通过离子注入技术来提高其性能和寿命。↑↑↑ ↑

↑↑在超导材料制造方面，离子注入技术可提高超导材料的临界温度，因此可将它应用到对超导材料的耐辐射性能和电学性能的研究中。例如，将氩离子注入铝膜，能使其临界温度上升；用氮或氧离子注入铌箔，其临界电流也有较大幅度的增加。离子注入对铌、锆等来说，均能改善其超导性能。此外，由于重离子的生物效应比Ｘ射线和Ｙ射线大得多，所以离子注入对生物组织的作用也是目前生物医学的重点研究领域。利用等离子束治疗恶性肿瘤，已取得良好效果。↑↑↑